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ACIDO ESTEARICO

Acido Estearico para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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ALCOHOL CETOESTEARÍLICO

Alcohol Cetoestearílico para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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BETAINA

Betaina para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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BUTIL GLICOL

Butil Glicol para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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CARBOPOL 980

Carbopol 980 para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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CERA EN ESCAMOS AUTOBRILLANTE

Cera En Escamos Autobrillante para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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CLORURO DE BENZALCONIO AL 50% (DODIGEN 226) IMPORTADO

Cloruro De Benzalconio Al 50% (Dodigen 226) Importado para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuid...
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CONSERVANTE

Conservante para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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GENAPOL EN PASTA AL 70% CHINO

Genapol En Pasta Al 70% Chino para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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GENAPOL EN PASTA AL 70% COLOMBIANO

Genapol En Pasta Al 70% Colombiano para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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GENAPOL EN PASTA AL 70% INDIA

Genapol En Pasta Al 70% India para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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GENAPOL EN PASTA AL 70% KOREANO

Genapol En Pasta Al 70% Koreano para uso cosmético. Ingrediente de alta pureza para formulación de cremas, lociones y productos de cuidado personal.
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